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消息称三星启动新战略,目标 6 个月内将 2 纳米 GAA 工艺良率提升至 60%-70%

文 / 小亚 2025-07-07 23:01:33 来源:亚汇网

据Chosun最新报道,三星已经开始实施一项“选择与集中”战略,其主要目标是将2纳米GAA技术的良率提升至60%至70%。一旦达到这一里程碑,大规模生产将成为可能,潜在客户也将进一步认识到其技术潜力。据报道,三星电子商业支持特别工作组和三星全球研究院正在推进提升2纳米GAA良率的战略。消息人士@Jukanlosreve在X平台上发布了详细信息,指出三星对这一光刻技术的关注主要源于客户对半导体的需求,这些客户可能在未来两到三年内继续依赖这项技术。投资于2纳米以下的工艺存在较高风险,但三星在2纳米GAA节点上已经取得了一定进展,使其成为帮助三星实现复兴并对抗台积电的可行选择。然而,三星的处境并不乐观。此前曾有报道称,三星终于获得了一线生机,有望为高通生产骁龙8EliteGen2芯片,但在完成试生产阶段后,高通却据称取消了这一计划。尽管如此,三星并未放弃努力,据悉其已完成了第二代2纳米工艺的基本设计,并计划在未来两年内推出第三代技术,即“SF2P+”。据亚汇网了解,通常情况下,为了使晶圆生产在商业上具有可行性,客户的良率需要达到70%。报道称三星高管已为其各部门设定了六个月的期限,以实现上述目标。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,亚汇网所有文章均包含本声明。

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